TFT-LCD的歷史發展狀況，現代TFT-LCD的技術層次

         TFT-LCD--薄膜晶體管 液晶顯示屏，TFT-LCD可以做到高對比度、高速度、高亮度顯示屏幕信息，這些都是人類一百年來的發展研究出來的，它的發展過程是怎樣的呢？下面就給您詳細介紹TFT-LCD的發展經歷過程。

          

1.       歷史回顧
        1888年，奧地利植物雪茄F.Reinitzer在觀察植物結晶特性的過程中，發現了如果將溫度上升到145℃時，結晶就會呈現白色狀況，加熱到172℃時那么呈現透明的狀態，德國的一個物理學家O.Lehmann在研究之后把它命名為液晶，這就是液晶顯示技術的開始
         在驅動這方面，TFT-LCD主要經歷了無源液晶顯示和有源液晶顯示的發展過程。

2.      TFT-LCD的技術發展趨勢
         隨著TFT-LCD在、筆記本、電視、顯示器以及工業設備顯示器的廣泛應用，最近幾年發展趨勢迅猛，已經受到了人們的關注。在TFT-LCD技術未來的發展趨勢，主要表現在高解析度、寬視角、低成本、高亮度以及低功耗等一些方面。

2.1    高解析度
         為了實現大面積的高解析度的液晶顯示，一般都是需要采用高性能開關元件、低阻抗金屬的材料以及高精細加工技術等的手段。現在研究和使用最多的材料就是鋁。
         1988年5月，IBM利用了A1-Nd合金來作為柵電極，開發出了16.3英寸的超高解析度（200ppi）a-Si TFT-LCD，并且已經實現批量生產。
         1999年4月，東芝推出了20.8英寸16-SVGA（3200X2400）a-Si TFT-LCD，這個可以說是代表了a-Si TFT-LCD在高解析度和高容量方面的最高水平。
          實現高解析度液晶顯示的另外一種重要的途徑是開發LTp-SiTFT 技術。就目前而言，已經發表的p-Si TFT-LCD產品的解析度一般都是在200ppi左右的。和a-Si TFT-LCD相比，LT p-Si TFT-LCD具有比較小體積的博膜晶體管以及儲存電容器，正是因為如此，它每一英寸都具有更強大的穿透區，從而就有了更亮的顯示畫面，而且更省電。

2.2    寬視角
         可視視角是指可以剛好看到對比度CR≥10的畫面時，視線與垂直屏幕的平面之間的夾角。跟隨著液晶屏的顯示技術不斷發展，寬視角模式現在已經成為業界追求的目標。就目前來講，主流的TFT-LCD寬視角技術主要有：VA、TN+Film、IPS以及FFS等技術。
        1973年，美國的R A Soref首次提出了IPS模式的橫向電場驅動觀念。
        1992年，德國的G Baur指出IPS有利于改善LCD的視角特性。
        1995年，日立公司的M Oh-e等開始研究將IPS應用到TFT-LCD面板，并且在次年成功開發出第一塊IPS面板產品，拉開了IPS技術廣泛應用的序幕。
        1997年，S.Aratani等提出了S-IPS模式，很大程度改善了色差的問題，從而使得S-IPS成為了具有低色差、廣視角的優越寬視角技術。
        2003年，Y. Nakayoshi等開發出了搭載AS-IPS技術的液晶面板，可以使S-IPS的穿透率提升大概30%。
        2006年，我國臺灣瀚宇彩晶公司的林俊雄等在AS-IPS的基礎上，成功開發出了AS-NOOC的IPS面板，光透過率比AS-IPS提升了大概10.8%，視角超過了176°，同時還具有更低的成本，更佳的色彩，穩定性等優異性能。目前，IPS模式已經成為了TFT-LCD實現寬視角效果最好的模式之一。

2.3    低成本
         一般情況下，減低成本已經成為眾多企業賴以生存的重要法則，所以減少掩模板數量，提升基臺產能，增大玻璃基板尺寸，提升基臺產能和產品良率以及采購就近原材料等方式，是大部分TFT-LCD生產企業不斷努力的方向。
         玻璃基板是生產薄膜晶體管 液晶顯示屏（TFT-LCD）重要的原材料，成本約占到總成本的15%~18%，經歷了短短二十年的視角，從第一代線（300mmX400mm）已經發展到了現在的第十代線（2,850mmX3,050mm）。
        TFT生產技術的核心就是光刻工藝，它又是決定產品質量的重要環節，還是影響產品成本的關鍵部分。而TFT生產工藝從前期的8掩模板或7掩模板光刻工藝發展到了現在普遍采用的5掩模板或4掩模板光刻工藝，大大的縮減了TFT-LCD的生產周期和生產的成本。近年來，LGD和三星等韓國企業在3掩模板光刻工藝的開發上面取得了突破性的進展，并且已經實現量產，但是因為3掩模板工藝技術難度大、良品率低，現在還在進一步的完善和發展中。

2.4    高亮度
         液晶顯示屏自身本是非發光性器材，所以在暗處不便于使用，為了提高它的易見性，需要借助背光源從背面均勻的照射顯示面。然而，通過增強背光源的亮度提高TFT-LCD顯示畫面的亮度可能付出的代價較高，從而通過提高光透率才是目前液晶顯示產業的一個重要的發展發向。現在在液晶面板生產中，一般是通過提高像素的開口率，采用低阻抗總線、高穿透率偏光片以及CF on Array等方式，都可實現TFT-LCD高亮度的要求。

2.5    低功耗
          2008年5月，C.C.Lai等提出了自適性調節技術，通過背光模組的自適性調節算法可以是背光源的功耗減低31%，同時還可以提高圖像對比度20.75%左右，是一種很有效降低TFT-LCD功耗的方法。
          2008年10月，葉強等設計出了一種采用雙重自適應補償的低靜態電流的低壓差線性穩壓器（LDO），試驗表明了這種補償的方法幾乎不需要消耗額外的電流，因此極其的適合TFT-LCD低功耗的設計要求。
 
結尾：隨著液晶產業的不斷壯大和發展，目前以TFT-LCD為代表的液晶顯示屏目前已經替代了CRT成為了顯示領域的主流。同時呢，TFT-LCD作為電子信息產業的核心和支柱，正在以其拉動效應顯著、輻射范圍廣等一些特點，推動著新裝備，新材料，系統應用以及智能化軟件等領域的蓬勃發展